Трубка титана покрытия вакуума Gr1 целится ASTM B861-06A OD133mm

Технология покрытия вакуума вообще разделена в 2 категории, а именно физической технологию низложения пара (PVD) и технологию низложения химического пара (CVD).
Физическая технология низложения пара ссылается на метод сразу депозировать покрывая материал на поверхности субстрата газифицированием в атомы и молекулы или ионизацией в ионы различными физическими методами под условиями вакуума. Трудные фильмы реакции главным образом подготовлены физическим низложением пара, которое использует некоторые физические процессы, как термальное испарение материалов или брызгать атомов на поверхности материалов под бомбардировкой иона, осуществить controllable процесс передачи атомов от исходного материала к фильму. Физическая технология низложения пара имеет много преимуществ, как хорошая сила фильма/основания скрепляя, форма и компактный фильм, controllable толщину фильма, широкую цель, широкий ряд брызгать, плотная пленка можно депозировать, фильм сплава со стабилизированным составом и хорошая повторимость. В то же время, физическое низложение пара можно использовать как процесс кончательной обработки для HSS и цементировало инструменты фильма карбида потому что обрабатывая температуру можно контролировать под 500℃. Потому что физическая технология низложения пара может значительно улучшить режа представление режущих инструментов, люди состязаются для того чтобы начать высокую эффективность и высокое оборудование надежности, но также расширение своих областей применения, особенно в применении высокоскоростной стали, карбида и керамических резцов для больше глубокого исследования.
Технология низложения химического пара изначальный газ содержа базу снабжения элемента или смеси мембраны, с помощью участка газа или субстратом на поверхности химической реакции, на матричном методе делать металл или фильм смеси, главным образом включая низложение химического пара атмосферного давления, низложение химического пара низкого давления и имеет обе особенности низложение химического пара плазмы CVD и PVD, etc.

Особенности

1. Низкие плотность и высокопрочный
2. подгонянный согласно чертежам требуемым клиентами
3. сильная коррозионная устойчивость
4. сильное сопротивление жары
5. сопротивление низкой температуры
6. сопротивление жары